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アポロエンジニアリングはなにをしている会社?

導体・絶縁体・半導体電化製品・ゲーム・パソコン・携帯電話などに加え、最近では自動車をはじめとする移動体や住宅内の諸設備、コンサートチケットに至るまでさまざまな製品に使われ、私たちの生活を豊かにしている「半導体」。この半導体を使用したICチップ製造プロセスの一部を当社では行っています。

では、「半導体」とはどんなものなのでしょうか。

鉄や銅、アルミニウムなど電気を通すものを「導体」といい、ガラスやゴムなど電気を通さないものを「絶縁体」といいます。そして、シリコンなど電気を通したり、通さなかったり、与えられる条件によって、導体・絶縁体の性質を持つことができる物質のことを「半導体」といいます。

半導体ができるまで(全体の流れ)

半導体製造の工程は、大きく分けて「前工程」「後工程」に分けられます。

前工程は、「拡散工程」とも呼ばれ、300~400工程ものプロセスがあり、最終的に「シリコンウェハーにIC回路を作りこむ」工程です。

後工程は、完成したウェハー上のICチップを1個1個検査した後、ウェハーを切り分け、良質チップだけを使い使用目的に合った形状のパッケージに加工・形成します。

前工程

シリコンウェハー
高純度のシリコン単結晶ウェハーを使用
素子分離形成
個々のトランジスタを分離するためのパターンを形成
トランジスタ形成
数千万個~数億個の微細なMOSトランジスタを形成
配線形成
銅などを用いた多層の配線電極を形成
保護膜形成
チップ裏面の保護のための強固な保護膜を形成
検査
シリコンチップの検査

アポロ電子の作業範囲

BG(裏面研磨)

使用目的に合わせて薄く加工。ウェハー状態で裏面を研削

後工程

ダイシング

ウェハーを個片化し、チップを切りだす

マウンティング
高純度のシリコン単結晶ウェハーを使用
ワイヤーボンディング
切り出したチップをリードフレーム(外部接続するための台座)に貼り付け
モールド(封入)
チップのパッド(外部機器とつながる端子)部とリードフレームを接続
最終検査
最終の出荷チェック
完成
出荷

※注:ここで紹介するプロセスは代表的なプロセスの概要です。製品により最適なプロセスで加工されます


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BG量産支援
6インチ/8インチ/12インチウェハー極薄研削量産対応を承ります。
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個片チップ、分割ウェハーや研削済ウェハーの再研削をはじめ、さまざまな試作加工を承ります。
ダイシング加工
BGに伴うダイシング加工を試作レベルから承ります。
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